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ICP-MS電感耦合等離子體質(zhì)譜儀:PlasmaQuant MS
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Analytik Jena(耶拿):分析測量技術(shù),生命科學(xué)和實(shí)驗(yàn)室自動化
耶拿設(shè)備起源于19世紀(jì),以其精密工程和創(chuàng)新技術(shù)聞名,是德國制造的代表。耶拿設(shè)備在全球科學(xué)儀器市場中占據(jù)領(lǐng)導(dǎo)地位,尤其在光譜分析領(lǐng)域享有盛譽(yù)。耶拿設(shè)備與世界各地的頂尖科研機(jī)構(gòu)合作,共同推動科學(xué)儀器技術(shù)的發(fā)展和創(chuàng)新。
一、ICP-MS電感耦合等離子體質(zhì)譜儀:PlasmaQuant MS
1、進(jìn)樣系統(tǒng):
四通道惰性蠕動泵進(jìn)樣,標(biāo)準(zhǔn)配置快泵功能
配置霧化器制冷單元,最低制冷溫度-15℃
配置在線高基體稀釋系統(tǒng),最大稀釋比例100倍
2、射頻發(fā)生系統(tǒng):
專利的等離子體聚焦技術(shù):實(shí)現(xiàn)了在相同功率下,等離子體的能量密度最高,耐受基體能力最強(qiáng)。
專利的等離子體聚焦技術(shù):實(shí)現(xiàn)了目前業(yè)內(nèi)最寬范圍等離子體功率300-1600W,冷等離子體和熱等離子體秒級切換。
3、接口界面業(yè)
內(nèi)配置最高接口真空設(shè)計,將日常雙錐維護(hù)頻率降至最低,高基體樣品持續(xù)分析時間提升至少2倍以上。
PlasmaQuant MS在采樣錐與截取錐之間的接口界面采用目前業(yè)內(nèi)最高的雙臂型真空設(shè)計,革命性的將采樣錐錐孔與截取錐錐孔的由6mm提升至9mm,樣品基體在截取錐的沉降速度相對傳統(tǒng)ICP-MS降低了2.25倍。
4、離子光學(xué)系統(tǒng)
PlasmaQuant MS Elite采用離子提取透鏡系統(tǒng)和離子四極桿反射光學(xué)系統(tǒng)雙系統(tǒng)構(gòu)成ICP-MS的離子光學(xué)系統(tǒng),業(yè)內(nèi)頂級豪華配置。
5、四極桿系統(tǒng)
PlasmaQuant®MS采用了S離軸預(yù)四極桿和主分析四極桿雙四極桿系統(tǒng),是業(yè)內(nèi)唯獨(dú)一家采用預(yù)四極桿技術(shù)的ICP-QMS。
6、檢測器
PlasmaQuant®MS采用了ADD11純數(shù)字脈沖技術(shù)檢測器,無需數(shù)字信號與模擬信號的交叉校正(PA校正)節(jié)省分析時間,保證瞬態(tài)分析信號的實(shí)時采集,11個數(shù)量級動態(tài)線性范圍。不僅可以應(yīng)對樣品中待測元素濃度分布不均勻、跨度大的實(shí)際分析難題,大大延長了檢測器典型使用壽命。
7、碰撞反應(yīng)池
PlasmaQuant®MS采用了專利的iCRC前置式碰撞反應(yīng)池技術(shù),是業(yè)界內(nèi)最簡潔、高效、靈活、快速的多原子離子干擾管理系統(tǒng)。
iCRC碰撞反應(yīng)池技術(shù)給予客戶最大的靈活性,不僅僅具有常規(guī)的單He碰撞模式還具備反應(yīng)模式,可在一次進(jìn)樣中實(shí)現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)模式(no gas)、單氦模式(He)、反應(yīng)模式(例如H2多種反應(yīng)氣可選)、KED動能甄別、低質(zhì)量數(shù)篩選、電子-離子解離復(fù)合模式,并在不同的模式之間實(shí)現(xiàn)秒級切換。
8、真空系統(tǒng)
PlasmaQuant®MS采用了頂配真空系統(tǒng)由一套機(jī)械泵和兩套渦輪分子泵組成。可冷開機(jī)5min即可進(jìn)入工作狀態(tài),節(jié)省分析時間和氬氣消耗。高效的真空系統(tǒng)達(dá)到了業(yè)內(nèi)最高級別的真空度水平,有效清除系統(tǒng)中的中性粒子、亞穩(wěn)態(tài)粒子、光子、中性碎片,降低隨即分析背景、改善檢出限,提升靈敏度。雙渦輪分子泵有效降低真空系統(tǒng)疲勞程度,減少故障率和維修維護(hù)成本。
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